濺射鈦靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領(lǐng)域，不同領(lǐng)域需要的靶材各不相同。濺射靶材根據(jù)成分可以分為純金屬靶材、合金靶材、氧化物靶材、硅化物靶材等多個品種；根據(jù)生產(chǎn)方法可以分為粉末靶、熔煉靶和噴涂靶；按照形狀可以分為平面靶材和管狀靶材，平面靶材又可以分為矩形靶和圓弧靶。
近年來，隨著電鍍和化學鍍等傳統(tǒng)表面改性技術(shù)的局限性日益突出，以物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)為主要工藝方法的真空鍍膜技術(shù)取得了突飛猛進的發(fā)展，其中PVD制備過程所需要的濺射靶材市場需求量日趨旺盛。據(jù)統(tǒng)計，全球范圍內(nèi)靶材的市場需求量每年以20％的速度增長，中國作為全球制造業(yè)大國，其靶材的市場需求量更是每
年以超過30％的速度增長。若不計貴金屬靶材，保守估計目前每年各領(lǐng)域所需要的靶材總量價值約100億元人民幣左右。
1、裝飾鍍膜
裝飾鍍膜主要是指手機、手表、眼鏡、衛(wèi)生潔具、五金零件等產(chǎn)品的表面鍍膜，不僅起到美化色彩的作用，同時也具有耐磨、耐蝕等功能。人民生活水平的不斷提高，要求越來越多的日常用品進行裝飾性鍍膜，因此裝飾鍍膜用靶材的需求量日益擴大。裝飾鍍膜用靶材主要品種有：鉻(Cr)靶、鈦(Ti)靶、鋯(Zr)、鎳(Ni)、鎢(W)、鈦鋁(TiA1)、不銹鋼靶等。
2、工模具鍍膜
主要是用于工具、模具的表面強化，能顯著提高工具、模具的使用壽命和被加工零件的質(zhì)量。近年來，在航空航天和汽車產(chǎn)業(yè)發(fā)展的帶動下，全球制造業(yè)的技術(shù)水平和生產(chǎn)效率有了長足進步，對高性能刀具、模具的需求量日益增加。目前，全球工模具鍍膜市場主要在歐美和日本。據(jù)統(tǒng)計，發(fā)達國家機加工用刀具的鍍膜比例已超過90％ 。我國刀具鍍膜比例也在不斷提升，刀具鍍膜用靶材的需求量日益擴大。工模具鍍膜用靶材主要品種有：TiAl靶、鉻鋁(CrA1)靶、Cr靶、Ti靶等。
3、玻璃鍍膜
靶材在玻璃上的應用主要是制作低輻射鍍膜玻璃，即利用磁控濺射原理在玻璃上濺射多層薄膜，以達到節(jié)能、控光、裝飾的作用。低輻射鍍膜玻璃又稱節(jié)能玻璃，近年來，隨著節(jié)
能減排和改善人們生活質(zhì)量需求的增加，傳統(tǒng)的建筑玻璃正逐漸被節(jié)能玻璃所取代。正是在這種市場需求的推動下，目前幾乎所有的大型玻璃深加工企業(yè)都在快速增加鍍膜玻璃生
產(chǎn)線。與此相對應，鍍膜用靶材的需求量快速增長，靶材主要品種有：銀(ag)靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻(NiCr)靶、鋅錫(ZnSn)靶、硅鋁(Sia1)靶、氧化鈦(Ti O )靶等。
靶材在玻璃上的另一個重要應用是制備汽車后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。隨著汽車后視鏡檔次要求的不斷提高，很多企業(yè)紛紛從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍
鉻工藝。
4、電子器件鍍膜
電子器件鍍膜主要用于薄膜電阻和薄膜電容。薄膜電阻可以提供10～1000M Q電阻，而且電阻溫度系數(shù)小、穩(wěn)定性好，可以有效減小器件的尺寸。
薄膜電阻用靶材有NiCr靶、鎳鉻硅(NiCrSi)靶、鉻硅(CrSi)靶、鉭(Ta)靶、鎳鉻鋁(NiCrA1)靶等。
5、磁記錄鍍膜
21世紀是經(jīng)濟信息化、信息數(shù)字化的高科技時代。信息超高密度儲存和高速傳輸?shù)囊?，推動信息高技術(shù)的進一步發(fā)展。先進的電子計算機和獲取、處理、存儲、傳遞各種信息的自動化設(shè)備都需要儲存器，信息存儲包括磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。磁存儲器如磁盤、磁頭、磁鼓、磁帶等是利用磁性材料的鐵磁特性實現(xiàn)信息存儲的。濺射薄膜記錄用的靶材包括C r基、鈷(CO)基、鈷鐵(CoFe)基、Ni基等合金。
6、平面顯示鍍膜
便攜式個人計算機、電視、手機等對平板顯示器件需求急劇增長的刺激，極大地促進了各類平板顯示器件的發(fā)展。平板顯示器種類有：液晶顯示器件(LCD)、等離子體顯示器件
(PDP)、薄膜晶體管液晶平板顯示器(TFT—LCD)等。所有這些平板顯示器件都要用到各種類型的薄膜，沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，濺射技術(shù)越來越多地被用來制備這些膜層。平面顯示鍍膜用靶材主要品種有：鈦靶、鉻靶、鉬)靶、Al靶、鋁合金靶，銅(CU)靶、銅合金和摻錫氧化銦(IT0)靶材等。
7、半導體鍍膜
信息技術(shù)的飛速發(fā)展，要求集成電路的集成度越來越高，電路中單元器件尺寸不斷縮小，元件尺寸由毫米級到微米級，再到納米級。每個單元器件內(nèi)部由襯底、絕緣層、介質(zhì)層、導體層及保護層等組成，其中，介質(zhì)層、導體層甚至保護層都要用到濺射鍍膜工藝，因此濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。半導體鍍膜用靶材主要品種有w、鎢鈦(wTi)、Ti、Ta、A1、Cu等，要求靶材純度很高，一般在4N或5N以上，因此半導體鍍膜用靶材價格昂貴。
8、太陽能電池鍍膜
隨著傳統(tǒng)石化燃料能源的日益減少，全世界都把目光投向了可再生能源，太陽能以其獨有的優(yōu)勢成為人們重視的焦點，主要是把太陽光能轉(zhuǎn)換為熱能和電能。其中光一電轉(zhuǎn)換是
通過光電效應直接把光能轉(zhuǎn)換成電能的太陽能電池來完成，目前，太陽能電池已經(jīng)發(fā)展到了第三代。第一代是單晶硅太陽能電池，第二代是非晶硅和多晶硅太陽能電池，第三代是薄膜太陽能電池(銅銦鎵硒[C IGs]為代表)，而濺射鍍膜工藝是被優(yōu)先選用的制備方法。全球低碳經(jīng)濟的興起，為新能源、新材料的發(fā)展提供了廣闊前景，全球各大靶材供應商都將太陽能電池鍍膜用靶材作為重要的研發(fā)產(chǎn)品，太陽能電池鍍膜正以爆炸式的方式增長。以2005年太陽能電池裝機量為基準，年遞增率分別為23％、40％、67％預估。太陽能電池鍍膜用靶材主要品種有：氧化鋅鋁(AzO)靶、氧化鋅(ZnO)靶、鋅鋁(ZnA1)靶、鉬(Mo)靶、硫化鎘(CdS)靶、銅銦鎵硒(CulnGaSe)等。
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