鎳靶材是電子與半導體工業中不可或缺的關鍵基礎材料。在物理氣相沉積（PVD）工藝中，鎳靶作為濺射源，其高純度的原子被轟擊后沉積在晶圓或基板上，形成各種關鍵的導電、導磁或阻擋層... 【詳情】

磁記錄用鎳靶材，作為物理氣相沉積（PVD）技術的核心濺射源材料，專用于在磁盤、磁帶或傳感器基片上制備具有特定磁性能的功能性薄膜。隨著數據存儲密度從傳統水平記錄向垂直磁記錄... 【詳情】

半導體制造用鎳靶材是以高純度鎳（≥99.95%）或鎳基合金（如鎳鎢、鎳鈷）為材質?，通過物理氣相沉積（PVD）或化學氣相沉積（CVD）制備的薄膜材料?，具備高導電性、耐腐蝕性、熱穩定性及優異機械性能?，需滿足高純度（≥99.95%）、高致密度（≥98%）及表面無缺陷等標準?，主要應用于半導體導電層/阻擋層、光伏電池背電極及智能玻璃涂層等領域?。... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度：99.99%產品應用：電子半導體，晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】

產品名稱：鎳靶（鎳多弧靶）產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度：99.99%產品應用：鎳多弧靶廣泛應用于電子半導體，晶元及芯片、微電子... 【詳情】

產品名稱：鎳靶塊牌號：N6, N4用途：鎳靶塊主要用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度：99.99%產品應用：電子半導體，晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】

產品名稱名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳靶管牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號： N6、 N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度：99.99%產品應用：電子半導體，晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鎳銅靶材，鎳銅多弧靶，鎳銅旋轉靶，鎳銅平面靶牌號：NiCu用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳靶管牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號： N6、 N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】