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    濺射鍍膜用鈦靶材制備工藝

    發(fā)布時間:2024-06-27 12:31:12 瀏覽次數(shù) :

    隨著微電子技術(shù)、光學(xué)和光電子技術(shù)等高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,特別是表面技術(shù)和薄膜材料的發(fā)展,薄膜科學(xué)應(yīng)用日益廣泛。靶材作為濺射沉積薄膜的關(guān)鍵材料,對金屬薄膜的性能起著至關(guān)重要的作用。晶粒尺寸、取向控制和均勻性是高純?yōu)R射靶材制備技術(shù)開發(fā)最主要的3個方面。近年來,對鎢靶、鉬靶和鈮靶的制備工藝研究較多[1-3],而有關(guān)純鈦靶材制備工藝的研究卻鮮有報道。

    目前,制備純金屬靶材的方法有熔煉法和粉末冶金法。采用真空熔煉方法制造的靶材可確保塊材內(nèi)部無氣孔存在。而粉末冶金方法制造的靶材,則極有可能含有一定數(shù)量的氣孔,氣孔的存在,會導(dǎo)致濺射時不正常放電,而產(chǎn)生雜質(zhì)粒子。另外含有氣孔的靶材因其密度較低,在搬運、安裝和操作時,也極易發(fā)生碎裂[4-5]。對于純鈦板來說,目前工業(yè)化常用的板坯通常采用真空自耗電弧爐熔煉+鍛造法和電子束熔煉法制得。本文主要從制坯方式和熱處理溫度著手,探索適合靶材用鈦板的最佳制備工藝,以期為工業(yè)生產(chǎn)提供可靠的理論指導(dǎo)和依據(jù)。

    1、試驗材料與方法

    本試驗選用板坯的名義成分均為工業(yè)純鈦(TA1),一種為真空自耗電弧爐熔煉+鍛造坯,簡稱(VAR+F)坯;一種為電子束熔煉坯,簡稱EB坯,兩種板坯厚200mm。將兩板坯分別經(jīng)2800mm四輥可逆軋機一火軋制成13mm厚板材,經(jīng)退火和表面處理后制成成品板材。將板坯的長度進行5等分,依次在這5處取樣,分析板坯不同部位的成分,同時對扒皮后的光亮板坯進行維氏硬度測試,加載載荷砝碼5kg。比較不同制坯方式下所得板坯及成品板材的組織及性能,以期獲得適合靶材用純鈦板材的制坯方式。

    用箱式電阻爐將制得的13mm厚熱軋板材加熱到650~800℃,保溫30min,空冷,研究熱處理溫度對板材組織及性能的影響,探索適合靶材用鈦板晶粒尺寸及硬度匹配的最佳熱處理溫度。

    2、試驗結(jié)果與討論

    2.1制坯方式對鈦靶材組織與性能的影響

    表1給出了真空自耗電弧爐熔煉+鍛造法和電子束法制得板坯的化學(xué)成分。從表1可以看出,其平均氧含量分別為0.06%和0.07%,能夠滿足靶材用鈦板氧含量不大于0.18%的技術(shù)要求。但(VAR+F)板坯氧含量的最大偏差僅為0.02%,遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于EB板坯最大氧含量偏差0.06%。同樣,其他元素如Fe、C、N和H的含量均能滿足技術(shù)要求,但是EB板坯的成分偏差要略大于(VAR+F)板坯。一般來說,電子束熔煉因采用水冷銅坩堝,因此和爐材的反應(yīng)和污染少;而且由于電子束易控制,熔煉速度和能量可任意選擇,因此提純效果較好[6-7]。但是電子束熔煉也存在一些缺點,如除Fe、Ni和O效果不佳,故如果配料的原料成分不均勻,也會導(dǎo)致板坯的成分存在偏差;而且重金屬也必須在電子束熔煉前用融鹽電解法或碘化法除去。

    b1.jpg

    表2是(VAR+F)坯和EB坯制得的TA1板坯的維氏硬度測試值。從板坯硬度的均勻性來看,(VAR+F)坯的最大硬度為192MPa,最小值為151MPa,其偏差為41MPa;而EB坯的最大硬度為223MPa,最小值為107MPa,其偏差為116MPa。EB坯的硬度偏差明顯大于(VAR+F)坯,這與成分偏差的規(guī)律相吻合。

    b2.jpg

    由表2還可看出,(VAR+F)坯的平均硬度為164MPa,略高于EB坯的平均硬度155MPa。這可能是因為在氧含量接近的情況下,EB坯為鑄態(tài)組織,而(VAR+F)坯是鍛造組織,鍛坯因在高溫鍛造過程中發(fā)生了動態(tài)再結(jié)晶,不僅使錠坯中的微氣孔進行焊合,而且大大細(xì)化了晶粒,導(dǎo)致其組織較鑄態(tài)會有所細(xì)化,故在一定程度上提高了(VAR+F)坯的硬度。同時細(xì)化晶粒也為板坯軋制后獲得細(xì)小晶粒提供了基礎(chǔ),充分保證了晶粒尺寸分布的均勻性。

    圖1是兩種坯料經(jīng)軋制和退火后的成品板組織。

    t1.jpg

    圖1(a)為(VAR+F)坯成品板退火后組織,可見其組織均勻,平均晶粒尺寸約為62.5μm。從圖1(b)可見,EB坯成品板組織晶粒大小不一,其最大晶粒尺寸約130μm,最小晶粒尺寸約為33μm。

    綜合來看,(VAR+F)坯的成分及成品組織均勻性要明顯優(yōu)于EB坯。對于靶材來說,成分及組織均勻是鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定的重要參數(shù),故下文中的靶材用TA1板坯以(VAR+F)坯為研究對象。

    2.2退火溫度對鈦靶材組織與性能的影響

    表3是經(jīng)不同溫度退火后的鈦板室溫力學(xué)性能。

    b3.jpg

    可見,隨退火溫度由650℃升高至800℃,抗拉強度及規(guī)定非比例延伸強度逐漸降低,伸長率逐漸升高。較之于熱軋態(tài),當(dāng)650℃退火時,抗拉強度和規(guī)定非比例延伸強度分別降低了約72MPa和128MPa,伸長率提高了15%;當(dāng)繼續(xù)升溫至800℃時,抗拉強度和規(guī)定非比例延伸強度分別降低了113MPa和168MPa,伸長率提高了34.5%。在650~800℃之間退火后,鈦板的抗拉強度,規(guī)定非比例延伸強度和伸長率均能滿足技術(shù)要求中對室溫力學(xué)性能的要求。考慮到靶材對鈦板硬度的要求,當(dāng)退火溫度在650℃時,維氏硬度值約為104MPa,雖然其較熱軋態(tài)降低了33%,但仍不能滿足靶材中維氏硬度不大于100MPa的要求。當(dāng)在700~800℃退火時,維氏硬度值均降至100MPa以下。

    圖2是熱軋態(tài)和不同溫度退火態(tài)鈦板的橫向組織。由圖2(a)可以看到,熱軋態(tài)是完全雜亂的加工態(tài)組織。經(jīng)650℃退火后,其平均晶粒尺寸為31.8μm,隨退火溫度繼續(xù)升高至700、750和800℃,其平均晶粒尺寸分別增加至44.9、63.5和151μm。據(jù)日本Energy公司研究,若將鈦靶的晶粒尺寸控制在100μm以下,且晶粒大小的變化保持在20μm以內(nèi),其濺射所得薄膜的質(zhì)量可得到大幅度改善[8]。

    t2.jpg

    隨著退火溫度的繼續(xù)增加,個別晶粒發(fā)生了吞并和長大,在圖2(d,e)中可以明顯看到異常長大的晶粒,導(dǎo)致板材內(nèi)部組織的不均勻。而且圖2(f)中的晶粒度評級為2.5級,不能滿足靶材對板材組織晶粒度≥5級的要求。一般來說,同一成分的靶材,細(xì)小尺寸晶粒靶材的濺射速率要比粗晶快,濺射鍍膜的厚度分布越均勻;而晶粒尺寸相差較小的靶材,淀積薄膜的厚度分布也較均勻[9]。故成品板選擇700℃,保溫30min,空冷退火后可以實現(xiàn)鈦靶材組織和性能的最佳匹配。

    3、結(jié)論

    1)真空自耗電弧爐熔煉+鍛造法制得的板坯成分及組織均勻性要優(yōu)于電子束熔煉制得的板坯,且硬度較高,靶材用鈦板坯選用真空自耗電弧爐熔煉+鍛造法制得。

    2)真空自耗電弧爐熔煉+鍛造法制得的板坯,經(jīng)650~800℃退火處理后,強度及伸長率均滿足要求,但650℃退火時,硬度較大。綜合分析經(jīng)軋制及700℃保溫30min空冷退火后,可以實現(xiàn)靶材用鈦板組織和性能的最佳匹配。

    參考文獻:

    [1]郭讓民.高純鎢濺射靶材制取工藝研究[J].稀有金屬材料與工程,1998,27(S1):70-72.

    [2]李晶,王錦,安耿,等.不同鍛造變形量對管狀濺射靶材晶粒組織的影響[J].中國鉬業(yè),2012,36(4):48-51.

    [3]李兆博,張春恒,李桂鵬,等.濺射鍍膜用鈮靶材晶粒尺寸控制工藝研究[J].材料開發(fā)與應(yīng)用,2010,25(6):33-35.

    [4]楊邦朝,胡永達(dá),崔紅玲.濺射靶材的應(yīng)用和發(fā)展趨勢[J].真空,2002(2):1-4.

    [5]劉志堅,陳遠(yuǎn)星,黃偉嘉,等.濺射靶材的應(yīng)用及制備初探[J].南方金屬,2003(135):23-24.

    [6]馬立蒲,劉為超.電子束熔煉技術(shù)及其應(yīng)用[J].有色金屬加工,2008,37(6):28-31.

    [7]張英明,周廉,孫軍,等.鈦合金冷床熔煉技術(shù)進展[J].鈦工業(yè)進展,2007,24(4):1-3.

    [8]禹澤海,孫鵬,汪春平,等.高純銅濺射靶材的發(fā)展及現(xiàn)狀[J].山西冶金,2007(5):4-6.

    [9]尚再艷,江軒,李勇軍,等.集成電路制造用濺射靶材[J].稀有金屬,2005,29(4):475-477.

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